真空鍍膜電源采用先進的PWM脈沖寬度調制技術性,具備良好的動態性性能和抗干擾性才可以,動態性映襯時時刻刻十分小。整體規劃有工作電壓.電流量雙閉環控制操控電源電路,可即時對輸出電流電壓的操控。在起弧和維弧時要積極急速操控電流電壓使起弧和維弧工作更穩定,減壓穩壓閥精密度大大的發展,能有效節約濺射靶材使用量,發展生產能力,保證 鍍膜品質。
真空機電源的大的特點及產品優點:采用了先進的PWM脈沖寬度調制技術性,具備良好的動態性性能和抗干擾性才可以,動態性映襯時時刻刻低于10mS。整體規劃有工作電壓.電流量雙閉環控制操控電源電路,可即時對輸出電流電壓的操控,能有效解決磁控濺射流程中負極相對孔徑的不清理造成電光充放電導致大電流量沖擊性造成電源的毀壞疑惑。
采用智能化DSP操控技術性,積極操控電源的恒流源恒流電源情況。在起弧和維弧時要積極急速操控電流電壓使起弧和維弧工作更穩定。具備工作電壓陡降特點,可充足令人滿意射頻濺射的特別要求。
電源的輸出電流電壓操控精密度低于0.2%。具備模擬量輸入操控插口,客戶的4-20mA數據信號能操控電源的電流電壓,電源輸出4-20mA數據信號供客戶的PLC呈現電源的輸出電流電壓。電源的功率因素達到0.95,電源輸出功率≥90%。