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真空鍍膜有蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜三種形式：當濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時，可以獲得固體表面的粒子。能量從表面逸出并沉積在基板上；離子鍍蒸發物質的分子通過電子撞擊被電離，并以離子的形式沉積在固體表面。
所有三種形式的真空鍍膜技術都需要快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜過程。由于工件在鍍膜過程中處于封閉的真空環境中，真空設備失去了很多產品技術和性能?，F有的真空鍍膜設備也有冷卻裝置，但其冷卻效果不是很理想。
不能滿足人們的需要，為彌補現有技術的不足，真空鍍膜電源廠家提供一種真空鍍膜設備手套箱蒸發一體機。該系統集成了真空鍍膜系統和手套箱系統，可在高真空蒸發室中完成薄膜蒸發。樣品在手套箱中的高純度惰性氣體氣氛下蒸發后儲存、制備和測試。為保證涂層產品工藝和性能質量要求而設置的快速冷卻系統，可實現快速冷卻自動控制的目的。
蒸發鍍膜與手套箱相結合，實現了蒸發、封裝、測試等過程的全封閉生產，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個環境氣氛可控的完整系統中，無需有機大-區域電路準備。大氣環境中不穩定因素的影響，保證了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備。
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