HVP高壓窄脈沖電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑制工件表面打火，明顯提高鍍件的成品率、表面光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈沖輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(Z 大脈沖寬度25uS)。
   D 可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調制技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該系列產品采用先進的DSP控制系統，充分保證鍍膜工藝的重復性，
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶面清洗工藝的穩定性，又提高了靶面清洗速度；
主要參數均可大范圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控制。

主要用途：

高壓窄脈沖電源適用于特殊鍍膜工藝時被鍍工件表面的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用范圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括制造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜；建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表面上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。對于國內真空鍍膜設備制造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，復蘇充滿不確定性，經濟處于繼續探底過程，真空鍍膜設備制造企業應著力進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境污染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等制造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，制造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等制造業價值鏈高端挺進。