MS系列勵磁多波形電源

主要型號：

主要特點：
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的Z高值和Z低值可獨立設置。
   B輸出電壓范圍：-40V~+40V。
   C波形頻率范圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調制技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該系列產品采用先進的DSP控制系統，充分保證鍍膜工藝的重復性，
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶面清洗工藝的穩定性，又提高了靶面清洗速度；
主要參數均可大范圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控制。

主要用途：

MS系列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性可變磁磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表面處理及小功率范圍內的國內市場已經接受，具有廣闊的市場前景。但產品主要局限于1500A以下的中小功率領域，在國內也只有少量廠家生產，從技術角度看主要限于硬開關變換模式和模擬控制方式，可靠性、EMC及工藝結構等方面具有明顯的局限性，同焊接等領域全面推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。

真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方面，在真空中以真空技術為基礎，把物理方法和化學方法利用起來，通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一系列高新技術，在科學研究和實際生產中，為薄膜制備提供一種新工藝，簡單的一點來說，要在真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射，并讓被涂覆的物體（有基片、稱基板、基體等等）進行凝固并沉積，這種方法稱為真空鍍膜，那真空鍍膜電源就可想而知，眾所周知，在一些材料的表面上鍍上一層薄膜，就可以使這種材料具有多種性能，例如良好的物理和化學性能并且是嶄新的；